光伏產業中，硅片生產過程中需將硅片進行清洗才能生產出合格產品。太陽能硅片表面污染物主要包括環氧樹脂、油脂、聚乙二醇、松香等有機物，塵埃及其它金屬離子玷污和顆粒污染等，它們通常以物理吸附和化學鍵的方式存在于硅片的表面。這些雜質嚴重影響著電池片的性能。
非離子表面活性劑應用條件廣，不受各種嚴苛化學條件的影響，并具有很強的滲透力，通過活性劑分子滲入硅片表面與吸附物之間，在溶劑流動的沖擊下向污垢粘附深層擴散，將污垢基團托起，隨著溶劑流動形成的剪切力將污垢基團與硅片分離，并且活性劑分子取而代之吸附在硅片表面上形成一層隔離膜，防止污垢基團的再次吸附。
本文實驗選用的活性劑AEO- 9是聚氧乙烯鏈結構，清洗時通過非極性碳氫鏈對污垢進行滲透和包裹，親水的極性基團鏈則大部分與水分子通過化學鍵形成水合基團溶于水中，形成較厚的保護層，擴大污垢粒子相接近的空間障礙，減小污垢基團之間聚集成團的吸附力，從而提高污垢在清洗溶液中的分散效果，有利于提高去除硅片上顆粒；其次，非離子表面活性劑的分子較大，同樣減小了表面活性劑與硅片之間的化學鍵吸附，從而形成易清洗的色散力吸附取代較緊密的電荷吸附，比較容易地清洗掉脂肪醇。
聚氧乙烯醚與壬基酚聚氧乙烯醚為無色透明油狀液體，這些表面活性劑完全溶于水，易生物降解，是清洗劑的主要成分。在硅片加工中引入的Na、 Mg、 Ca 等重金屬離子會使太陽能壽命大大下降，漏電流增加。因此，在清洗劑中必須采取措施來清除重金屬離子。加入螯合劑是有效去除金屬離子通常做法，因為螯合劑的主要成分是螯合環，它的兩端有共用電子對和金屬離子作用，用化學鍵的方式將其拉向螯合環并形成穩定的螯合物，螯合劑的大基團將金屬離子包裹進去，將其與硅片分離開來，最終通過清洗溶劑的流動剪切力接觸金屬離子與硅片的粘附。十二烷基苯磺酸鈉 LAS 是一種陰離子表面活性劑，，易與各種助劑復配，成本較低，是較好的化工原料助劑。三聚磷酸鈉是清洗劑配方中最重要的無機助劑，溶于水。三聚磷酸鈉本身具有表面活性劑的一般特性，具有較強的絡合堿金屬和重金屬的能力，對固體顆粒有很強的分散力和懸浮力，在去除油垢方面有良好的效果，可防止污垢再沉積，提高清洗去污力清洗效果。
篩選后的清洗劑呈堿性，能去除99%以上的污垢附著物，而且不會在硅片上產生二次粘附物。制備的清洗劑可直接在常溫下進行超聲清洗，清洗條件溫和。清洗后的返片率僅為傳統工藝的 1/10。
清洗劑的分子量對分子鏈非極性端化學鍵產生較大影響，反應溫度是清洗劑制備中一個重要的控制因素，一般控制在60℃效果最好，雖然更高溫度能夠使清洗劑配制過程時間更短，但是也增加了清洗劑中長鏈分子鏈的分解，分解產物會在清洗過程中形成二次粘附造成二次污染。一般配制溫度以 60~100℃為宜，以乙烯醚類活性劑為軟段、 以陰離子表面活性劑位硬段，以螯合劑彈性體，配合三聚磷酸鈉等助劑，從而大大提高硅片清洗后的性能
